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真空烧结炉主要用于半导体元器件及电力整流器件的烧结工艺,可进行真空烧结,气体保护烧结及常规烧结,是半导体专用设备系列中一种新颖的工艺装备,它设计构思新颖,操作方便,结构紧凑,在一台设备上可完成多个工艺流程。亦可用于其他领域内的真空热处理,真空钎焊等工艺。但是,在日常使用时,它的应急措施我们一定的了解!
什么是热压炉真空热压烧结?真空热压烧结是在真空环境下,对置于限定形状模具中的松散粉末或对粉末压坯加热的同时对其施加压力,使材料成型与烧结同时完成的一种工艺。
碳化硅真空烧结炉广泛应用于陶瓷、碳化硅、硬质合金材料、光电镀模材料和石墨纯化的真空烧结处理,在使用真空烧结炉中要进行维护保养,只有做好保养才可以更长久地使用。所以,碳化硅真空烧结炉使用时一定要注意以下事项: 1.如网带为顶针网带,请用砂纸等打磨顶针端,以防止对电池片的划伤,如果是斜角网带,则在转速100情况下低速烘烤,以铲除有机物。 2.如灯管感染有机物,请当心用酒精棉或无纺布擦洗。
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